• ロードロック式スパッタリング装置

    ロードロック式スパッタリング装置

    特徴

    • 当社独自のスパッタカソードを搭載
    • ムービングマグネットにも対応し全面エロージョンが可能
    • 当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載し基板温度900℃を実現
    • 発光分析システムによるプラズマ分析とフィードバック制御により、高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜が可能
    • リフトオフ等低温プロセスも対応可
    • トレイ搬送も対応可
    • CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可

    用途

    • 半導体
    • MEMS
    • 電子部品
    • 光学部品
    • 車載部品

    仕様

    基板サイズ 最大φ12インチ
    スパッタカソード マグネトロン方式
    ターゲットシャッタ
    スパッタ電源 RFまたはDC
    プロセスガス Ar、O2、N2、他
    基板ステージ 基板加熱:700℃(基板表面)
    自転:最高20rpm
    真空排気 構成1:TMP+DP
    構成2:CP+DP
    圧力制御 APC制御
    制御操作 制御:PLC
    操作:タッチパネルまたはPC
    データロギング 外部メモリまたはPC
    基板搬送 真空搬送ロボット
    オプション 基板加熱900℃
    基板バイアス(RFまたはDC)
    基板冷却(低温成膜)
    ムービングマグネット
    磁性材ターゲット用カソード
    発光分析システム
    トレイ搬送
    Q-MASS など
  • 多元スパッタリング装置

    多元スパッタリング装置

    特徴

    • 当社独自のスパッタカソードを搭載
    • 基板ステージに3軸機構(昇降、公転、自転)を搭載し、均一な膜厚分布を実現
    • 当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載し、基板温度900℃を実現
    • 最大4台のスパッタカソードを搭載し、金属膜、酸化膜等の積層成膜が可能
    • トレイ搬送にも対応
    • CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可

    用途

    • 半導体
    • MEMS
    • 電子部品
    • 光学部品
    • 車載部品

    仕様

    基板サイズ 最大φ12インチ
    スパッタカソード マグネトロン方式
    ターゲットシャッタ
    スパッタ電源 RFまたはDC
    プロセスガス Ar、O2、N2、他
    基板ステージ 基板加熱:700℃(基板表面)
    自転:30rpm
    公転:10rpm
    昇降:50mmst
    真空排気 構成1:TMP+DP
    構成2:CP+DP
    圧力制御 APC制御
    制御操作 制御:PLC
    操作:タッチパネルまたはPC
    データロギング 外部メモリまたはPC
    基板搬送 真空搬送ロボット
    オプション 基板加熱900℃
    基板バイアス(RFまたはDC)
    基板冷却(低温成膜)
    ムービングマグネット
    磁性材ターゲット用カソード
    発光分析システム
    トレイ搬送Q-MASS など
  • 立体物用バッチ式スパッタリング装置

    立体物用バッチ式スパッタリング装置

    特徴

    • 当社独自のスパッタカソードを搭載
    • ワークステージに4軸機構(昇降、公 転、自転、チルト)を搭載し、立体物成膜での高いカバレッジを実現
    • 最大3台のスパッタカソードを搭載し、金属膜、酸化膜等の積層成膜が可能

    用途

    • MMS
    • 電子部品
    • 光学部品
    • 車載部品

    仕様

    基板サイズ 最大φ5インチ×高さ40mm
    形状・サイズ・材質等で異なりますのでお問い合わせください。
    スパッタカソード マグネトロン方式
    ターゲットシャッタ
    スパッタ電源 RFまたはDC
    プロセスガス Ar、O2、N2、他
    ワークステージ 加熱温度:500℃(ステージ表面)
    自転:30rpm
    公転:10rpm
    昇降:40mmst
    チルト機構:±30°
    基板バイアス(RFまたはDC)
    真空排気 TMP+RP
    圧力制御 APC制御
    制御操作 制御:PLC
    操作:タッチパネルまたはPC
    データロギング 外部メモリまたはPC
    ワーク取り付け 上蓋昇降旋回開閉式
    オプション 基板冷却(低温成膜)
    ムービングマグネット
    磁性材ターゲット用カソード
    ドライポンプ
    発光分析システム
    Q-MASS など
  • 薄膜MEMS用
    超高温スパッタリング装置

    薄膜MEMS用超高温スパッタリング装置
  • 薄膜MEMS用
    バッチ式スパッタリング装置

    薄膜MEMS用バッチ式スパッタリング装置
  • 研究開発用IBS装置

    研究開発用IBS装置
  • 多元複合スパッタリング装置
    ※東北大学コインランドリーにて稼働中

    多元複合スパッタリング装置※東北大学コインランドリーにて稼働中
  • 有機EL用
    GB付きスパッタリング装置

    有機EL用GB付きスパッタリング装置
  • ロードロック式二元スパッタリング装置

    ロードロック式二元スパッタリング装置
  • 研究開発用
    バッチ式三元スパッタリング装置

    研究開発用バッチ式三元スパッタリング装置