-
酸化膜/窒化膜プラズマCVD装置
特徴
- 2周波独立印可方式により、低応力、高硬度、高絶縁性を実現
- 優れた膜厚分布および再現性を実現
- 特殊表面処理によるメタルコンタミ低減
- ラジカルプラズマクリーニングシステムによる大幅なパーティクル低減および生産性向上
- 広範な膜特性の制御可能
- 豊富な蓄積データ
- トレイ搬送にも対応可能
用途
- 半導体
- MEMS
- 有機EL
- 太陽電池
- 電子部品
- 光学部品
仕様
基板サイズ 最大φ12インチ 成膜プロセス SiH4系：SiO2、SiNx、SiON、a-Si
TEOS/TMOS系：SiO2プラズマソース CCP型 基板加熱温度 最高300℃（基板表面） 真空排気 低真空プロセス：MBP+DP
高真空プロセス：TMP+DP圧力制御 APC制御 制御操作 制御：PLC
操作：タッチパネルまたはPCデータロギング 外部メモリまたはPC 基板搬送 真空搬送ロボット オプション 300℃以上の高温プロセス
発光分析システム
排ガス処理装置
ガス検知器
シリンダーキャビネット など -
DLCコーティング装置
特徴
- 成膜源はRFプラズマCVD法とイオン化蒸着法から選択可能
- 基板加熱源は水冷型と加熱型から選択可能
- 優れた膜厚分布および再現性を実現
- 様々な基板材質に成膜可能
- 広範な膜特性の制御可能
- 豊富な蓄積データ
- トレイ搬送にも対応可能
用途
- 半導体
- 電子部品
- 光学部品
- 車載部品
- 医療部品
仕様
基板サイズ 丸 最大φ12インチ
角 最大310mm×375mm成膜ガス DLC：液体・気体ソース
フッ化DLC：液体ソースセルフクリーニングガス O2、Ar、他 基板加熱温度 最高300℃（基板表面） 真空排気 低真空プロセス：MBP+DP
高真空プロセス：TMP+DP圧力制御 APC制御 制御操作 制御：PLC
操作：タッチパネルまたはPCデータロギング 外部メモリまたはPC 基板搬送 真空搬送ロボット オプション 300℃以上の高温プロセス
発光分析システム
排ガス処理装置
ガス検知器
シリンダーキャビネット など -
カーボンナノチューブ合成装置
特徴
- 全自動でCNT合成が可能
- 基板プラズマクリーニングシステム搭載
- 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現
- 優れた膜厚分布および再現性を実現
- 豊富な蓄積データ
用途
- エネルギー関連
- マテリアル関連
- バイオ関連
- ナノテクノロジー関連
- エレクトロニクス関連
仕様
基板サイズ 最大φ12インチ CNT合成ガス CH系、H2 基板加熱温度 最高800℃（基板表面） 真空排気 RP 圧力制御 APC制御 制御操作 制御：PLC
操作：タッチパネルまたはPCデータロギング 外部メモリまたはPC オプション 基板自動搬送システム
ガス検知器
シリンダーキャビネット など -
立体物用CVD装置
特徴
- チャンバー容積 1m³
- 独自のプラズマ制御方式
- 多段式大量一括処理可能
- 高い汎用性を備えたシンプルな構造
- 様々な製品材質に成膜可能
- 広範な膜特性の制御可能
- 豊富な蓄積データ
用途
- 各種工具
- 摺動部品
- 装飾品
- 自動車部品
- 機械部品
仕様
ワークサイズ 形状・サイズ・材質により異なりますので、お問い合わせ下さい。 チャンバサイズ 1m×1m×1m 成膜可能膜種 DLC、フッ化DLC、SiOx、SiON セルフクリーニングガス O2、Ar、他 真空排気 MBP+RP 圧力制御 APC制御 制御操作 制御：PLC
操作：タッチパネルまたはPCデータロギング 外部メモリまたはPC オプション ワークに合わせた専用電極
ガス検知器
シリンダーキャビネット など -
PETボトル用プラズマCVD装置
概要
当社が得意といたします、プラズマCVDプロセス技術を応用し、樹脂容器材質として一般的に普及しております「PETボトル」へのDLCコーティングに特化した成膜装置です。
PETボトル内面へサブミクロンオーダーのDLC薄膜コーティングを施すことで、内容物の酸化による風味劣化防止や、炭酸成分の溶出防止、また容器軽量化による物流コストの低減などに貢献します。用途
- 必要生産本数により、様々な装置構成のご提案可能
- 3L容器までコーティング可能
- 3L以上の容器に関してもご相談下さい
- PET樹脂以外の樹脂材質に関してもご相談下さい
- 金属材質に関してもご相談下さい
-
HDDメディア
超薄膜DLC両面成膜ユニット
-
HDDヘッド
DLC成膜装置マルチチャンバ仕様
-
HDDヘッド
DLC成膜装置バッチ仕様
-
研究開発用ロードロック式
プラズマCVD装置
-
金属容器用プラズマCVD装置
-
医療容器用
プラズマCVD装置
-
立体物用プラズマCVD装置
-
基礎研究開発用
φ12インチ対応ALD装置.
-
ICP型MOCVD装置
-
太陽電池用
プラズマCVD装置
-
ガラス基板対応量産型
マルチチャンバ仕様プラズマCVD装置
