▼カスタマイズ例
■電極及び磁石の設計
①立体物用スパッタ電極の設計
②粉体成膜用スパッタ電極の設計
■ワークステージの特殊仕様
①加熱温度：常温～1000℃
②自転・公転・チルト機構・バイアス機構
③PZT単結晶薄膜用スパッタ装置の設計
■異種成膜法のマルチチャンバー装置
①スパッタチャンバー・CVDチャンバーを搭載したマルチチャンバー装置
②スパッタリング、CVDおよび蒸着など異なる成膜プロセスを組み合わせたマルチチャンバー装置

• 研究開発用アニール装置

  

• 低温グロープラズマ実験装置

  

• 極低温成膜実験装置

  

• フィルム巾390mm対応R to Rプラズマ処理装置

  

• TMP+RP排気セット

  

• バッチ式プラズマ処理装置

  

• 分析用超高真空チャンバ

  

• HW式表面改質装置（CAT）

  

• ロードロック式プラズマCVD装置（当社デモ機）