• 酸化膜/窒化膜プラズマCVD装置

    酸化膜/窒化膜プラズマCVD装置

    特徴

    • 2周波独立印可方式により、低応力、高硬度、高絶縁性を実現
    • 優れた膜厚分布および再現性を実現
    • 特殊表面処理によるメタルコンタミ低減
    • ラジカルプラズマクリーニングシステムによる大幅なパーティクル低減および生産性向上
    • 広範な膜特性の制御可能
    • 豊富な蓄積データ
    • トレイ搬送にも対応可能

    用途

    • 半導体
    • MEMS
    • 有機EL
    • 太陽電池
    • 電子部品
    • 光学部品

    仕様

    基板サイズ 最大φ12インチ
    成膜プロセス SiH4系:SiO2、SiNx、SiON、a-Si
    TEOS/TMOS系:SiO2
    プラズマソース CCP型
    基板加熱温度 最高300℃(基板表面)
    真空排気 低真空プロセス:MBP+DP
    高真空プロセス:TMP+DP
    圧力制御 APC制御
    制御操作 制御:PLC
    操作:タッチパネルまたはPC
    データロギング 外部メモリまたはPC
    基板搬送 真空搬送ロボット
    オプション 300℃以上の高温プロセス
    発光分析システム
    排ガス処理装置
    ガス検知器
    シリンダーキャビネット など
  • DLCコーティング装置

    DLCコーティング装置

    特徴

    • 成膜源はRFプラズマCVD法とイオン化蒸着法から選択可能
    • 基板加熱源は水冷型と加熱型から選択可能
    • 優れた膜厚分布および再現性を実現
    • 様々な基板材質に成膜可能
    • 広範な膜特性の制御可能
    • 豊富な蓄積データ
    • トレイ搬送にも対応可能

    用途

    • 半導体
    • 電子部品
    • 光学部品
    • 車載部品
    • 医療部品

    仕様

    基板サイズ 丸 最大φ12インチ
    角 最大310mm×375mm
    成膜ガス DLC:液体・気体ソース
    フッ化DLC:液体ソース
    セルフクリーニングガス O2、Ar、他
    基板加熱温度 最高300℃(基板表面)
    真空排気 低真空プロセス:MBP+DP
    高真空プロセス:TMP+DP
    圧力制御 APC制御
    制御操作 制御:PLC
    操作:タッチパネルまたはPC
    データロギング 外部メモリまたはPC
    基板搬送 真空搬送ロボット
    オプション 300℃以上の高温プロセス
    発光分析システム
    排ガス処理装置
    ガス検知器
    シリンダーキャビネット など
  • カーボンナノチューブ合成装置

    カーボンナノチューブ合成装置

    特徴

    • 全自動でCNT合成が可能
    • 基板プラズマクリーニングシステム搭載
    • 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現
    • 優れた膜厚分布および再現性を実現
    • 豊富な蓄積データ

    用途

    • エネルギー関連
    • マテリアル関連
    • バイオ関連
    • ナノテクノロジー関連
    • エレクトロニクス関連

    仕様

    基板サイズ 最大φ12インチ
    CNT合成ガス CH系、H2
    基板加熱温度 最高800℃(基板表面)
    真空排気 RP
    圧力制御 APC制御
    制御操作 制御:PLC
    操作:タッチパネルまたはPC
    データロギング 外部メモリまたはPC
    オプション 基板自動搬送システム
    ガス検知器
    シリンダーキャビネット など
  • 立体物用CVD装置

    立体物用CVD装置

    特徴

    • チャンバー容積 1m3
    • 独自のプラズマ制御方式
    • 多段式大量一括処理可能
    • 高い汎用性を備えたシンプルな構造
    • 様々な製品材質に成膜可能
    • 広範な膜特性の制御可能
    • 豊富な蓄積データ

    用途

    • 各種工具
    • 摺動部品
    • 装飾品
    • 自動車部品
    • 機械部品

    仕様

    ワークサイズ 形状・サイズ・材質により異なりますので、お問い合わせ下さい。
    チャンバサイズ 1m×1m×1m
    成膜可能膜種 DLC、フッ化DLC、SiOx、SiON
    セルフクリーニングガス O2、Ar、他
    真空排気 MBP+RP
    圧力制御 APC制御
    制御操作 制御:PLC
    操作:タッチパネルまたはPC
    データロギング 外部メモリまたはPC
    オプション ワークに合わせた専用電極
    ガス検知器
    シリンダーキャビネット など
  • PETボトル用プラズマCVD装置

    PETボトル用プラズマCVD装置

    概要

    当社が得意といたします、プラズマCVDプロセス技術を応用し、樹脂容器材質として一般的に普及しております「PETボトル」へのDLCコーティングに特化した成膜装置です。
    PETボトル内面へサブミクロンオーダーのDLC薄膜コーティングを施すことで、内容物の酸化による風味劣化防止や、炭酸成分の溶出防止、また容器軽量化による物流コストの低減などに貢献します。

    用途

    • 必要生産本数により、様々な装置構成のご提案可能
    • 3L容器までコーティング可能
    • 3L以上の容器に関してもご相談下さい
    • PET樹脂以外の樹脂材質に関してもご相談下さい
    • 金属材質に関してもご相談下さい
  • HDDメディア
    超薄膜DLC両面成膜ユニット

    HDDメディア超薄膜DLC両面成膜ユニット
  • HDDヘッド
    DLC成膜装置マルチチャンバ仕様

    HDDヘッドDLC成膜装置マルチチャンバ仕様
  • HDDヘッド
    DLC成膜装置バッチ仕様

    HDDヘッドDLC成膜装置バッチ仕様
  • 研究開発用ロードロック式
    プラズマCVD装置

    研究開発用ロードロック式プラズマCVD装置
  • 金属容器用プラズマCVD装置

    金属容器用プラズマCVD装置
  • 医療容器用
    プラズマCVD装置

    医療容器用プラズマCVD装置
  • 立体物用プラズマCVD装置

    立体物用プラズマCVD装置
  • 基礎研究開発用
    φ12インチ対応ALD装置.

    基礎研究開発用φ12インチ対応ALD装置
  • ICP型MOCVD装置

    ICP型MOCVD装置
  • 太陽電池用
    プラズマCVD装置

    太陽電池用プラズマCVD装置
  • ガラス基板対応量産型
    マルチチャンバ仕様プラズマCVD装置

    ガラス基板対応量産型マルチチャンバ仕様プラズマCVD装置