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事業内容

当社 真空成膜装置部門は、旧ユーテック時代より、CVD法を用いたDLC（ダイヤモンドライクカーボン）成膜技術や、
世界でも数社しか実現していないスパッタ法による単結晶膜形成技術を確立してまいりました。
これらの技術は、MEMSをはじめとする高付加価値な半導体デバイスに不可欠な高品質膜を、
低コストかつ量産スケールで安定的に提供できる点において、当社の大きな強みです。
現在もこれらの技術は、当社の先端薄膜技術の基盤となっています。
 
今後もお客様の多様なニーズにお応えすべく、幅広い装置・技術の提供に取り組むとともに、
次世代の装置技術の創造に向けて、挑戦を続けてまいります。
また、真空成膜装置分野において、業界歴20年以上のベテラン技術者および営業担当者が多数在籍しており、
お客様のご要望に的確かつ柔軟にお応えできる体制を整えております。